投影(1D2D)

 

概要

  • 1D要素または要素エッジ、ジオメトリエッジを目標サーフェスに向かって投影押出しし2D要素を作成します。この際に、使用されるエッジはSeedingになっていたり、メッシュと連結されていなければなりません。

 

手法

投影押出しする1D要素、2D要素エッジ、若しくはシード情報が入力されたエッジを選択し、投影対象(目標サーフェス)と投影方向を設定します。要素サイズは直接入力したり、投影対象まで距離の分割数で定義できます。押出しに使用された元要素(1D要素)は削除/移動/コピーが可能です。移動の場合、押出しに使用した要素を押出しで作成された要素の端に移します。

               

   <1D要素->2D投影>                                       <要素エッジ->2D投影>

<ジオメトリエッジ->2D投影>

 

投影対象

 

投影対象(目標サーフェス)に予め作成されているジオメトリのフェイスまたは要素フェイスが選択出来ます。若しくは"3ポイント平面"機能で任意の3ポイントを通る目標サーフェスが設定できます。

 

投影方向

 

投影方向は全体座標系の軸方向または始点と終点を連結する任意ベクトル方向で設定します。"最短経路の方向"オプションを適用する場合、節点で投影対象(目標サーフェス)まで法線方向の最短経路方向を自動的に設定します。